根据日本科技网站《PC Watch》的报导，在日前解析了绘图芯片大厂英伟达（NVIDIA）的新一代图灵（Turing）架构之后，又指出NVIDIA在制程技术上原本想选择的是三星的10纳米制程技术，但最终还是选择了台积电的12纳米FFN技术，也就是和之前Volta显卡一样的制程。原因就是12纳米这种成熟的制程，即便核心面积有所增加，但是产能却能有保障。

图片来源：台积电官网

报导指出，NVIDIA从GTX 10系列显卡发表到现在已经过去2年多的时间，是近年来显卡升级间隔最长的一代。虽然挖矿卡市场由盛转衰所带来的库存一直被认为是新卡发布较晚的一个重要原因，但是显卡制程升级的问题可能也有关系。

也就是NVIDIA的新一代Turing架构显卡，原本要使用的是三星的10纳米制程，但是由于其他因素考量，最后还是选了台积电12纳米FFN制程。

报导中虽然没有提到转换制程的准确状况，不过市场人士表示，NVIDIA考虑更换制程的原因，除了技术更加成熟之外，产能稳定也是关键因素。

虽然三星10纳米制程比台积电自16纳米制程改良而来的12纳米制程更先进，但NVIDIA的12纳米FFN制程是台积电12纳米制程的定制化版本，比普通的12纳米FFC制程性能要好。此外，三星10纳米制程的产能可能不能满足NVIDIA，因此最后选择转回到台积电的12纳米制程上。

过去，三星在NVIDIA的GTX 10系列中，有为GP107核心的产品进行代工，不过NVIDIA高性能的核心产品一直是台积电代工；而且，如果三星10纳米LP制程用来代工Turing架构显卡，核心面积会比现在更少一些。但是在成本上，可能还是有一定的负担。不过，目前NVIDIA已经确定采用台积电的12纳米FFN制程的情况下，对三星的压力而言也就再增加了一些。

来源：TechNews科技新报

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