光刻
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- 上周强调观点：国务院机构改革最新方案提出重新组建科学技术部，是自主可控进入攻关阶段最强烈的信号。自主可控核心是底层技术，底层技术关键是芯片，芯片的痛点是设备和材料。近期
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- 声明：本文仅梳理公司和行业的最新基本面，并非在当前时间点推荐买卖公司，本公众号不具备个股操作指导功能，投资有风险，入市需谨慎一、晶圆厂、存储产当前扩产状况之前对于行业的预
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- 中国半导体论坛 振兴国产半导体产业！ 不拘中国、放眼世界！关注世界半导体论坛↓↓↓3月13日消息，据报道，国产半导体材料供应商晶瑞电材表示，公司KrF高端光刻胶部分品种已量产！据
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- 一、教授谈手机越用越慢手机越用越卡相信是很多人在使用手机时遇到的问题，那么为什么会这样呢？据央视新闻报道，在十四届全国人大一次会议 “代表通道” 上，全国人大代表、华中科
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- 本文由半导体产业纵横（ID:ICVIEWS）编译自semianalysisEUV太贵了，有其他解决方法吗？ASML 的 EUV 光刻工具真的很贵。每个 EUV 工具的价格现在接近 1.7 亿美元，其中的许多用于领先
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- 本周，ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而
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- 昨晚最火的概念是室温超导，各大股票群都在转发，股民彻夜无眠、赶紧学习，分析师拉人开会，还是一个反诈宣传会。在新概念面前，谁不想分一杯羹呢。短短一页，股民的情绪就从涨停、不参
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- ASML回应称，基于公司的了解，出口限制将针对新设备和备件的发运。一位熟悉半导体建厂的人士表示，从目前公开的信息看，管制范围是非常精确和具体的。作者：沈怡然封图：图虫创意荷兰政
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- （报告出品方/作者：东吴证券，周尔双，刘晓旭）1.电镀铜助力HJT降本增效，产业化进程即将进入加速期1.1.HJT亟需降低银浆成本，电镀铜为HJT独有的降本方式HJT 降本为规模扩产关键，银浆降本
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- ▲ 单崇新委员（左）在实验室。受访者供图不大的一间办公室被隔成两部分，进门是一张小床和一个沙发，隔断里面，一桌一椅，是办公区域。不是亲眼所见，很难想象这是一个大学副校长的办公
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- 3月9日上午，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。同时公司还表示“新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低
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- 来源：内容由半导体行业观察（ID：icbank）综合，谢谢。据彭博社报道，消息人士透露，根据荷兰针对中国的半导体技术出口管制措施，预计还有三种型号的ASML Holding NV光刻机将被禁止销往中
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- 作者：蒋高振 （执业证书号：S1230520050002）联系人：蒋高振/赵洪来源：浙商证券电子团队具体参见2023年3月7日报告《茂莱光学：光刻机及量测设备零部件！》，如需完整报告及数据底稿，请联系我
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- 1.日本拟对华限制光刻胶出口？国内投资者莫过于恐慌2.国家大基金重要人员变更！丁文武等退出 张新接任总经理一职3.车企价格战：一曲“东风破” 降价到“骨折”4.欧盟：准备加强先进
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- 大家好，我是佐/罗，公众号调整文章推送规则了，点击上方蓝字
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- 在黑龙江省鸡西市的鸡西浩市新能源材料有限公司车间内，一颗已被压制7天的组装石墨块正在工人的小锤下逐渐剥离外表，显露出璀璨的内核。2008年以来，这家公司先后跨越石墨提纯、
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- 中新经纬3月9日电 随着光刻胶概念走强，晚间12家上市公司披露了是否涉及光刻胶领域的情况。 9日，光刻胶概念再度走强，容大感光、同益股份“20cm”涨停，上海新阳涨超11%，彤
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- 作者：蒋高振S1230520050002联系人：厉秋迪来源：浙商证券电子团队具体参见2022年11月13日报告《【底层国产化】光刻胶：半导体产业核心卡脖子环节，国内厂商蓄势待发》，如需完整报告及
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- 美联储昨晚又鹰了，老鲍头表示如果有必要会加快加息，终端利率水平可能较之前预期更高，以及恢复价格稳定可能需要一段时间保持限制性政策。对应的就是，原本市场预期的3月加息25个
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- 点蓝字关注，不迷路~A股今日尾盘止跌回升，沪指、深成指接近翻红，科创50指数小幅走高；港股大幅下挫，恒指盘中跌近3%，恒生科技指数一度跌超4%。具体来看，A股方面，沪指盘中弱势震
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- 天天财经独家，速关注3月8日，A股低开后震荡下探，午后企稳回升，尾盘在三大运营商的助力下直线拉升，三大指数均以微跌报收。截至收盘，沪指跌0.06%，深成指跌0.09%，创业板指跌0.26%。北向
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- 作者：自由源于来源：自由源于（ID：freefrom_mn）引子：芯片的诞生1883年，美国发明大王爱迪生，发现了以他的名字命名的爱迪生效应。金属物质被高温加热之后，会释放出游离的电子；如果周围有
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- ASML 的 EUV 光刻工具很贵。每个 EUV 工具现在接近 1.7 亿美元，但您还是将其中的许多工具用于领先的半导体工厂。未来，每个 High-NA EUV 工具的成本将超过 3.5 亿美元。此外，这
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- 在较早的讨论中，仅在最佳焦点平面中考虑了光强度分布。在光学系统中，当成像平面和镜头之间的距离与最佳距离不同时，就会发生散焦（defocus）。根据一般经验，散焦会降低光学图像的清
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- 曝光过程中的光强由掩模板在空间上调制，并由光刻设备的光学器件进一步优化。我们这里只考虑玻璃光掩模中的长空间，所以晶片平面上的光强度 I 是只有一个变量的函数 I(
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