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[SCI期刊点评] 第354期 Materials Science in Semiconductor Processing

日期: 来源:顶刊追踪收集编辑:顶刊追踪


Materials Science in Semiconductor Processing期刊为讨论(光)电子,传感器,探测器,生物技术和绿色能源的功能材料和器件的新颖加工,应用和理论研究提供了一个独特的论坛。


该期刊旨在提供微电子、能量转换和存储、通信、生物技术、(光)催化、纳米和薄膜技术、杂化和复合材料、化学加工、气相沉积、器件制造和建模等不同领域的当前见解、新成就、突破和未来趋势的快照,这些领域是先进半导体加工和应用的支柱。


该期刊覆盖范围包括:


亚微米器件的高级光刻技术;

蚀刻和相关主题;

离子注入;

损害演变和相关问题;

等离子体和热CVD;

快速热处理;

先进的金属化和互连方案;

薄介电层,氧化;

溶胶凝胶加工;

化学浴和(电)化学沉积;

化合物半导体加工;

新型非氧化物材料及其应用;

(宏观)分子和混合材料;

分子动力学、从头算方法、蒙特卡洛等;

分立和集成电路的新材料和新工艺;

磁性材料和自旋电子学;

异质结构和量子器件;

半导体的电气和光学特性工程;

晶体生长机制;

可靠性、缺陷密度、内在杂质和缺陷。



这本期刊中科院分区为3区非TOP,最新期刊影响因子为4.644. 本期刊所在地为英国,隶属于ELSEVIER出版集团,每年12期。



期刊的五年影响因子变化情况,该期刊影响因子逐年上升,最新数据为4.644。



按影响因子来看,该期刊在工程、电气和电子期刊中,位居第75.



按影响因子来看,该期刊在材料科学、多学科期刊中,位居第129.



按影响因子来看,该期刊在应用物理期刊中,位居第44.



按影响因子来看,该期刊在凝聚态物理期刊中,位居第20.



根据引用半衰期数据,该期刊自引率较低,2020年,被引用的表现更好。



三年内,全球发文数量:


第一是中科院,

第二是印度理工学院系统,

第三是印度国立技术学院,

第四是印度斯里纳玛斯旺纪念大学,

第五是埃及知识库等,

第七是沙特阿拉伯哈立德国王大学,

第八是法国国家科学研究中心。



三年内,按照国家发文量排序:


第一是中国,

第二是印度,

第三是韩国,

第四是沙特阿拉伯,

第五是土耳其,

第六是日本,

第七是巴基斯坦,

第八是墨西哥,

第九是伊朗,

第十是美国。




网上的投稿经历分享较少,小编选取典型的2篇如下:




Materials Science in Semiconductor Processing的编辑处理速度较好,审稿周期较短,整个流程时效性比较好。建议有相关论文成果的朋友投稿试试。本期刊非OA期刊,无需版面费。


投稿链接:


https://www.editorialmanager.com/mssp/default.aspx


往期推荐:


[期刊点评] 第11期 ACS Applied Materials & Interfaces(IF=9.229)


[期刊点评] 第16期ACS Materials Letters(IF=8.312)


[期刊点评] 第51期Advanced Materials Interfaces(IF=6.147)


[期刊点评] 第79期 Journal of Materials Science(IF=4.682)



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