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来源：高分子科学前沿收集编辑：
3月13日消息，据报道，国产半导体材料供应商晶瑞电材表示，公司KrF高端光刻胶部分品种已量产！
据晶瑞电材介绍，子公司瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司的KrF光刻胶产品分辨率达到了 0.25~0.13μm 的技术要求，已通过部分重要客户测试，KrF高端光刻胶部分品种已量产。据了解，晶瑞电材是国内最早从事光刻胶生产的企业之一，目前已经取得合肥长鑫、士兰微、扬杰科技、福顺微电子、中芯国际等国内企业的供货订单。据晶瑞电材介绍，子公司瑞红 ( 苏州 ) 电子化学品股份有限公司凭借强大的研发实力和突出的产品优势，取得了下游客户的认证，开拓并维系了一大批国内外优质客户，构建了优质的业务平台并成功进入优秀客户的供应链。作为芯片产业链上的重要一环——光刻胶，是由树脂，感光剂，溶剂，光引发剂等组成的混合液态感光材料。原理是利用光化学反应，经光刻工艺将所需要的微细图形转移到加工衬底上，来达到在晶圆上刻蚀出需的图形的目的。如果把光刻机理解为一台胶片相机，它要使用的胶片就是光刻胶。按照曝光波长不同，光刻胶可以分为g线，i线、KrF、ArF、以及EUV几种，其中KrF、EUV和ArF光刻胶主要被应用于集成电路，属于高端光刻胶。由于在芯片生产中是不可或缺的重要原料，光刻胶也因此被称为“半导体材料皇冠上的明珠”。有投资者在投资者互动平台提问：请问公司KrF（248nm深紫外）光刻胶产品分辨率是否达到了0.25～0.13μm的技术要求？并且通过部分重要客户测试?晶瑞电材3月13日在投资者互动平台表示，公司子公司瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司的KrF光刻胶产品分辨率达到了 0.25～0.13μm 的技术要求，已通过部分重要客户测试，KrF高端光刻胶部分品种已量产。--纤维素推荐--
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