Intel公司芯片制造工艺近年来一直停留在14nm阶段，而三星、台电等公司纷纷进入10nm，7nm也处于触势待发阶段。如今Intel公司的14nm工艺已被网友嘲讽为14nm"++++++"（一连串加号，不知多少个）。

Intel 公司10nm工艺计划从2016年开始应用，但从媒体上看到的消息，可能要到2019年底才问世，2020年逐渐普及。10nm工艺差不多要延迟4年了。

CPU内部晶体放大

笔者很欣喜看到一个令人振奋消息，据讯嘉楠耘智官方近日宣布，该公司正式发布全球首个7nm量产芯片，最领先的7nm芯片应用在阿瓦隆区块链超级计算机A9。这芯片成为全球首款7nm量产芯片。

8月8日下午，全球首个7纳米芯片成功量产新闻发布会在杭州正式举办。据介绍，这是全球首个研发并量产成功的7nm芯片，早于苹果、英特尔、英伟达、台电。对于集成电路产业发展，中国芯赶超国外，专用芯片实现弯道超车而言具有里程碑的意义。

2017年，中国进口集成电路近额为2601.4亿美元，超过原油成为第一大宗进口产品，相比之下，集成电路出口金额却只有668.8亿美元。中国占全球芯片需求份额50%以上，其中国产芯片自供份额仅占约8%。而本次嘉楠耘智的7nm芯片成功量产，领先于苹果，因特尔，英伟达，具有重要的战略意义。

笔者认为虽然专用"挖矿"芯片复杂度不能和X86 CPU相比，与米帝差距仍非常巨大。但我国能首发7nm，说明正在努力追赶，让我们国人看到未来我国芯片领域高速发展的希望之光。

笔者在高兴同时，也是清醒知道我国芯片制造之觞。笔者估计，应用7nm光刻机设备，应该是进口荷兰公司ASML制造的EUV光刻机。ASML公司垄断全球光刻机市场，西方国家一直对我国进行禁运，即使有钱也买不到。

ASML光刻机

我国在光刻机技术上是取得一定成就，目前正在自主研发的9nm光刻机，使用不同于ASML技术路线。正因为自主研发进步，不然ASML是不会出口给我国使用。ASML出口光刻机也是有出于打压我国自主研发设备的目标。希望我国继续加大投入研发，最终脱离进口光刻机，完成整个芯片制造工艺的自主技术。

中国自主研发的9纳米光刻机样机