【PConline资讯】半导体系体例造进程中最庞大也是最难的步调便是光刻，光刻机也因而成为最紧张的半导体系体例造设置装备摆设。今朝开始进的光刻机是荷兰ASML公司消费的EUV光刻机，每一台售价数亿欧元，且需求很长的定货周期。
2019年，台积电、三星城市开端量产7nm EUV工艺产物，现有的EUV光刻机也差未几成熟了，固然产量比起传统的DUV光刻机另有所没有如，7nm及来岁的5nm节点上EUV光刻机城市是重点。
EUV光刻机将来还能怎样开展?2016年ASML公司颁布发表斥资20亿美圆收买德国蔡司公司25%的股分，并投资数亿美圆协作研发新一代透镜，而ASML这么年夜手笔投资光学镜头公司便是为了研发新一代EUV光刻机。
日前韩媒报导称，ASML公司正主动投资研发下一代EUV光刻机，与现有的光刻机比拟，二代EUV光刻机最年夜的变革便是High NA(高数值孔径)透镜，经过晋升透镜规格使患上新一代光刻机的微缩辨别率、套准精度两年夜光刻机中心目标晋升70%，到达业界对于多少式芯片微缩的请求。
正在这个成绩上，ASML客岁10月份就颁布发表与IMEC比利时微电子中间协作研发新一代EUV光刻机，目的是将NA从0.33晋升到0.5以上，而从光刻机的辨别率公式——光刻机辨别率=k1*λ/NA中能够看出，NA数字越年夜，光刻机辨别率越高，以是进步NA数值孔径是下一代EUV光刻机的关头，究竟结果如今EUV极紫外光曾经晋升过一次了。
此前ASML发布的新一代EUV光刻机的量产工夫是2024年，不外有报导称下一代EUV光刻机的量产工夫将被推延到2025年。
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