采用电控磁驱动，同时采用磁挡材料压缩驱动磁场提高磁斥力，可以提高光刻机喷嘴的灵敏度和加工半导体电路坐标的精度。
改良升级后量产45nm芯片，成立笫二第三研究小组进行45至22nm工艺的研发，还有负责材料设备的改良核心零件的突破
中国应象组建国防科工委一样组建中国半导体集成电路集团，统筹全国半导体产业资源和资本，统一协调，规划，逐步全产业链开发，形成产业链优势。
目前中国在半导体设备研发方面只是一个小学生的水平，如果将荷兰ASML光刻机的技术应用到中国，中国将会突破技术研发中的壁垒。
中国的芯片必将厚积薄发，咸鱼翻身，大有作为。在世界上，凡是被中国人盯上的技术，牵心的设备。没有中国人搞不成的事。或多或少，只是个时间问题。
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