激光激发化学气相沉积（LCVD）是一种在化学气相沉积过程中利用激光束的光子能量激发和促进化学反应的薄膜沉积方法。所用的设备是在常规的化学气相沉积设备的基础上添加激光器、光路系统及激光功率测量装置。为了提高沉积薄膜的均匀性，安置基材的基架可在x、y方向做程序控制的运动。为使气体分子分解，需要高能量光子，通常采用准分子激光器发出的紫外光，波长在157nm（F2）和350nm（XeF）之间。另一个重要的工艺参数是激光功率，一般为3~10W/cm²。
LCVD与常规化学气相沉积相比，可以大大降低基材的温度，防止基材中杂质分布受到破坏，在不能承受高温的基材上合成薄膜。例如，用TCVD 制备SO2、S，N、AIN 薄膜时基材需加热到800~1200℃，而用LCVD则需380~450℃。LCVD与PCVD相比，可以避免高能粒子辐照在薄膜中造成的损伤。由于给定的分子只吸收特定波长的光子，因此，光子能量的选择决定了什么样的化学键被打断，这样使薄膜的纯度和结构就能得到较好的控制。
（摘自《气相沉积薄膜强韧化技术》侵权必删）
| 留言与评论（共有 0 条评论） “” |
