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石墨烯研发成功，清华大学宣布光刻机难题解决，现实可能很残酷

清华教授指明方向，攻克3个关键技术，国产芯片有望跨过5nm

有梁孟松的助力，国产芯片制作工艺的精度才会在极短时间内突飞猛进。

失去这样一位对国产芯片破局有功的人才，将是中国大陆半导体产业的一大损失。

抛开此事不谈，在国产芯片7nm制作工艺尚未成熟之际，5nm时代已然来临，落后一步的中国半导体产业，能否顺利跨过5nm还是个未知数。

对此，清华大学教授，同时也是中国半导体行业协会集成电路设计分会理事长魏少军，在中国（上海）集成电路创新峰会上指明了方向。

魏少军表示，目前集成电路技术再一次站在岔路口上，新器件、新材料、新工艺，微纳系统集成外加芯片架构这三大领域的创新，将成为中国集成电路领域跨越5nm工艺的过程中，需要攻克的三个关键技术。

魏少军教授点明，其中，架构的创新会引领计算领域的变革；器件结构的选择会决定未来竞争的制高点；异质器件系统集成会开辟摩尔定律延续的新方式。

在上述三个关键技术的研发上，我国仍有很大的进步空间，但在新型材料的突破上，相关团队已经取得领先世界的优势。

当摩尔定律接近物理极限时，就需要从其他角度来提升晶圆的性能，新型材料的替代便是思路之一。

目前，我国已经掌握制造碳基晶圆的核心技术，并且8英寸的碳基单晶晶圆已经进入小批量试产阶段。这一点在全球范围内处于领先状态。

魏教授表示，如果能够在新材料上实现突破，摩尔定律就能延续一段路。不过，目前美国正想方设法阻止中国科技继续发展，在装备、材料上给予中国企业诸多限制。

除了种种技术之外，专业人才的短缺也是目前国内集成电路领域亟待解决的问题。毕竟没有人才，何谈技术研发和积累。针对人才问题，此前已经有一所国内的集成电路大学正式成立。

总而言之，就目前的形势来看，国产芯片还有很长一段路要走，还有很多困难在路上等待着。