2018年国际光刻机巨头ASML阿斯麦的EUV光刻机设备总销量达到18台，并计划2019年将完成30台的交付量。

来自供应链的最新消息称，台积电将拿下 ASML这30台EUV 光刻机出货量中的 18 台。

ASML表示，EUV的“划时代”意义不仅仅是因为它极大地简化了工艺流程，更在于它将全面支持我们的客户推进7纳米逻辑芯片和16纳米DRAM工艺制程朝更尖端的方向发展。

单位时间内的晶圆产量提升是EUV商业价值的重要指标。

2006年，ASML第一台EUV原型需要超过21个小时才能曝光完成一片完整的晶圆，妥善率（availability）小于10%。

进入新一代EUV曝光技术，2018年ASML的NXE:3400B已在客户端测试中，实现每小时125片晶圆的产量里程碑，更达成80%以上妥善率（availability）。

EUV系统的运行速度，已在过去十余年间提高了2,600倍，这是质的飞跃。

ASML进一步指出，推动高量产的“幕后英雄”是EUV光源的突破性创新。

ASML科学家Alex Schafgans也曾这样评述EUV光源技术的探索过程：“我们并没有按照原本规划的方案走，之前我们计划输出更为强力的激光射线，但取而代之的，我们探索出如何更有效地将等离子体转换为EUV光源。”

ASML 已与卡尔蔡司公司合作开发出数值孔径为0.33的EUV光刻机镜头，并积极研发下一代0.55高数值孔径(High-NA)光学系统，为推进3纳米及以下制程做努力。

该光学系统与多重成像技术相比，成本将降低50%，周期时间将缩短3到6倍，并具备一流的套刻和聚焦性能。

ASML将在今年推出新一代的EUV光刻设备NXE：3400C，预计每小时达到170片晶圆产量，妥善率（availability）更将超过90％。该系统计划于2019年下半年供货。