为打击国产刻蚀机,这家中国厂商被美国告了11年,好在无一败诉

众所周知,芯片制造是一个相当复杂的过程,牵涉到的材料、设备众多,其中像光刻机、刻蚀机就是非常关键的设备。

而国内在光刻机技术上相对是较为落后的,目前只能造出生产28nm芯片的光刻机,但在刻蚀机方面,却处于世界顶尖水平,能够制造出生产5nm芯片的刻蚀机。

这家厂商就是中微半导体,2004年成立,去年生产的5nm刻蚀机已经交由台积电验证,预计明年将有于台积电的5nm芯片生产线上。并且中微半导体之前在7nm、12nm等制程中,一直就是台积电的刻蚀机供应商,目前在刻蚀机领域,排名全球第5。

现在看来中微半导体是成功了,但这15年以来过得却异常艰难,从成立到成长都是一个磨难的过程。

先是在成立时,创始人尹志尧曾在泛林半导体和美国应用材料公司公司当高管,后面于2004年想回国,并凑齐了30个人的优秀团队一起回国创业。

但美国出手阻拦,最后拦不住了时,说人可以走,东西必须留下,扣留了600多万个文件和电脑资料全部没收,就一些人两手空空回了国。

但就算这样,大家也没有放弃,于2004年5月份正式成立中微半导体,主营就是刻蚀机。

但接下来,又是一些磨难的开始,从2007年到2017年这11年间,先后有美国应用材料公司、科林半导体起诉中微半导体侵权,还有美国MOCVD设备巨头宣布禁售产品给中微半导体。

但好在这三家公司针对中微半导体长达11年的诉讼中,中微半导体从没有败诉,全是胜利,所以这些美国企业想要打击国产刻蚀机的愿意也就落了空。

而经过这些磨难之后,中微半导体通过自己的努力,更是成为了世界领先的刻蚀机生产厂商,打入了台积电、中芯国际等代工大厂。

如今,中国芯发展迅速,在设计、制造、封测等领域均取得了飞速的发展,像中微半导体这样的领先的半导体设备厂商,真的是多多益善,你觉得呢?

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